Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии #489639

Авторы:
;
Жанры:
Технические науки и промышленность в целом; Теория надежности. Материаловедение; Электроника; Приборостроение; Другие справочники; Производственно-практические издания
Формат:
PDF книга
Объем:
529 стр
ISBN:
978-5-94836-222-9, 978-5-04-154197-2
Язык:
русский
Год написания:
2010
Правообладатель:
Техносфера
Аннотация:

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии – реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов.

Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Читать фрагмент книги - Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Поделиться страницей